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400-68-17025

產(chǎn)品名稱:場發(fā)射掃描電子顯微鏡

產(chǎn)品型號:GeminiSEM 460

產(chǎn)品品牌:ZEISS 蔡司

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服務(wù)承諾:真實描述正品銷售售后保障

  • 產(chǎn)品詳情

GeminiSEM 460 場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)

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FE-SEM滿足亞納米成像、分析和樣品靈活性的高要求

蔡司GeminiSEM可助您輕松實現(xiàn)亞納米級分辨率的成像。出色的成像和分析技術(shù)更使FE-SEM(場發(fā)射掃描電子顯微鏡)如虎添翼。采用創(chuàng)新的電子光學(xué)系統(tǒng)和全新樣品倉設(shè)計,不僅操作更加簡便,用途更加靈活多樣,還可為您帶來更高的圖像質(zhì)量。無需水浸物鏡即可拍攝低于1 kV的亞納米級圖像。

 

蔡司Gemini電子光學(xué)系統(tǒng)的三種設(shè)計:

● GeminiSEM 360 — 分析測試平臺的理想選擇

● GeminiSEM 460 — 實現(xiàn)高效分析

● GeminiSEM 560 — 表面成像的新標(biāo)準(zhǔn)

GeminiSEM 460

可從低電流-低電壓工作條件無縫切換到高電流-高電壓工作條件。通過原位加熱和拉伸實驗室來拓展您的應(yīng)用范圍。充分發(fā)揮其各項優(yōu)勢,如共面式EDS/EBSD配置、EDS數(shù)據(jù)的無陰影面分布和快速收集4000點/秒的EBSD圖。

 
金屬樣品的EBSD圖

兼顧高分辨率和高電流

★ GeminiSEM 460專為應(yīng)對要求嚴(yán)苛的分析任務(wù)設(shè)計,可實現(xiàn)高效分析和自動化的工作流程。

★ 快速執(zhí)行高分辨率成像和分析:使用Gemini 2鏡筒,從低束流-低電壓工作條件無縫切換到高束流-高電壓工作條件(或反之)。

★ 同時,可使用多個探測器對任意樣品進(jìn)行全方位表征。

★ 利用多功能樣品倉進(jìn)行高效分析,還可選擇合適的分析探測器。

★ 在全新的VP模式下,調(diào)高電流,獲得計數(shù)率達(dá)4000點/秒的EBSD成像。

★ 通過兩個幾何對稱的EDS端口和共面式EDS/EBSD配置,可以檢測化學(xué)組分和晶體取向,實現(xiàn)高速、無陰影的EDS/EBSD成像。

定制自動化工作流

定制自動化工作流

★ 由于擁有如此強(qiáng)大的分析能力,工作流程的自動化便顯得至關(guān)重要。使用蔡司的Python腳本API,可創(chuàng)建并配置屬于您的自動化實驗流程。

★ 根據(jù)您的個性化需求修改實驗流程并量身定制想要的效果。

★ 充分利用STEM斷層掃描成像功能:將自動傾斜和旋轉(zhuǎn)功能與特征跟蹤功能有效結(jié)合,在將所有對齊的圖像發(fā)送至專屬三維重構(gòu)軟件后,可構(gòu)建具有納米級分辨率的三維斷層成像。

★ 若需要測試材料承受極限,提供執(zhí)行自動化原位加熱和拉伸實驗的實驗平臺,在實驗過程中,可自動為您呈現(xiàn)材料在加熱和拉伸下的情況,并實時繪制應(yīng)力應(yīng)變曲線。

為您帶來更多可能性

為您帶來更多可能性

★ 以Gemini 2鏡筒的設(shè)計為基礎(chǔ),在用于材料和生命科學(xué)領(lǐng)域時,超高可調(diào)電流密度條件下的分析能力顯著提升,即使在低電壓條件下亦是如此。

★ 可充分利用各種配件來升級系統(tǒng)。例如,不僅可以加入分析設(shè)備,還可使用原位實驗設(shè)備、冷凍成像和納米探針設(shè)備對多功能樣品倉進(jìn)行配置。存儲器可讓您連接到實驗室中不同設(shè)備采集的數(shù)據(jù),從而能夠集中管理項目。

★ 在使用設(shè)備期間,可隨時輕松裝配和升級各種配置。

★ 所有GeminiSEM均加入了蔡司ZEN core生態(tài)系統(tǒng),通過這項功能,您可訪問ZEN Connect、ZEN Intellesis及ZEN的分析模塊,幫助您生成報告和實現(xiàn)GxP工作流程。

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Gemini電子光學(xué)系統(tǒng)背后的科技

 

Gemini電子光學(xué)系統(tǒng)背后的科技

● Gemini 1

基本原理簡介

FE-SEM專為高分辨率成像設(shè)計,性能的一個關(guān)鍵是其電子光學(xué)鏡筒。Gemini是為實現(xiàn)任何樣品的出色分辨率而特別設(shè)計的(尤其在低加速電壓下),可實現(xiàn)完整高效的探測,且操作簡單。
Gemini 1光學(xué)鏡筒包含電子束推進(jìn)器、Inlens探測器和Gemini物鏡。

Gemini電子光學(xué)系統(tǒng)有以下三個主要特征:

✔ Gemini物鏡的設(shè)計結(jié)合了靜電場與電磁場,在大幅提升光學(xué)性能的同時大大降低了對樣品的影響。如此也可實現(xiàn)對磁性材料等具有挑戰(zhàn)性的樣品的高品質(zhì)成像。 ✔ Gemini電子束推進(jìn)器技術(shù)是一種集成光束減速器,確保了小尺寸的電子束斑和高信噪比。 ✔ Gemini Inlens的探測設(shè)計原理通過同時探測二次電子(SE)和背散射電子(BSE),大幅縮短到圖像的時間,確保了高效的信號探測。
火石顆粒,左:Inlens EsB,右:Inlens SE圖像。

針對您的應(yīng)用,可以有以下優(yōu)勢:

✔ SEM電子束對準(zhǔn)可長期保持穩(wěn)定,改變探針電流和加速電壓對系統(tǒng)幾乎沒有影響。 ✔ 幾乎無磁場泄露的光學(xué)系統(tǒng)可實現(xiàn)無失真高分辨率成像。 ✔ 使用Inlens SE探測器,可通過真正的表面敏感性SE 1電子技術(shù)生成圖像,從而只獲得樣品最頂層的信息。 ✔ 使用Inlens EsB探測器的探測設(shè)計理念,在非常低的電壓下獲得真實的材料成分襯度。    

● Gemini 2

充分利用快速分析

任何樣品的全面表征都需要高性能的成像和分析,另外,如今的用戶都希望設(shè)備易于設(shè)置和操作。Gemini 2光學(xué)系統(tǒng)能滿足這些需求。
Gemini技術(shù)。Gemini 2電子光學(xué)鏡筒截面示意圖,包含一個雙聚光鏡、電子束推進(jìn)器、Inlens探測器和Gemini物鏡。

高分辨率成像與分析可無縫切換

✔ GeminiSEM 460配備具有雙聚光鏡的Gemini 2光學(xué)系統(tǒng)。 ✔ 連續(xù)調(diào)整電子束的電流強(qiáng)度,同時優(yōu)化束斑大小。 ✔ 可在低束流的高分辨率成像與高束流的分析模式之間進(jìn)行無縫切換。 ✔ 在更改成像參數(shù)后無需進(jìn)行校準(zhǔn),省時省力。
鋼的EBSD圖。

保持靈活,高效工作

✔ 保持靈活:使用高電子束能量密度在低束流和高束流下進(jìn)行高分辨率成像和分析,不受您選擇的電子束能量影響。 ✔ 樣品不會暴露于磁場中:實現(xiàn)了大觀察視野內(nèi)的無失真EBSD圖案和高分辨率成像。 ✔ 樣品傾斜轉(zhuǎn)動時不影響電子光學(xué)系統(tǒng)的性能,磁性樣品也能輕松成像。 ✔ 選擇適合樣品的消荷電模式:局部電荷補(bǔ)償、腔室內(nèi)可變壓力或NanoVP。  

● Gemini 3

在低于1 kV條件下成像——整合專業(yè)知識

Gemini 3光學(xué)系統(tǒng)優(yōu)化了低電壓和極低電壓下的分辨率并實現(xiàn)了襯度增強(qiáng),確保從1 kV到30 kV的所有工作條件下成像效果可達(dá)高分辨率且包含兩個彼此協(xié)同運(yùn)作的組件:Nano-twin物鏡和全新的電子光學(xué)引擎Smart Autopilot。此外,它還具有高分辨率電子槍模式和可選的樣品臺減速技術(shù)(Tandem decel)。 分辨率模式——讓您看到更多細(xì)節(jié) 通過兩種模式可獲得SEM圖像的更多細(xì)節(jié)和更多探測信號。在高分辨率電子槍模式下,電子束色差降低,從而實現(xiàn)了更小的束斑;在樣品臺減速技術(shù)模式下,為樣品施加減速電壓,從而可進(jìn)一步提高1 kV以下的圖像分辨率并增強(qiáng)背散射探測器的檢測效率。
Gemini 3鏡筒的全新光學(xué)設(shè)計。GeminiSEM 560的截面示意圖。Nano-twin物鏡(紅色),Smart Autopilot(藍(lán)色)。

Nano-twin物鏡的優(yōu)勢:

✔ 在低電壓和超低電壓下達(dá)到亞納米級分辨率,實現(xiàn)更出色的信號探測效率。 ✔ 與標(biāo)準(zhǔn)Gemini物鏡相比,在低電壓下的物鏡像差降低了三倍,從而使樣品上的磁場降低了三倍,約為1 mT。 ✔ 優(yōu)化幾何結(jié)構(gòu)和靜電場及磁場分布。 ✔ Inlens探測器在低電壓成像條件下的信號得到增強(qiáng)。 ✔ 這些特性提供了在低于1 kV的條件下完成亞納米級成像的能力,而無需將樣品浸入電磁場中。
對焦1秒后自動聚焦的準(zhǔn)確度

工作原理:

✔ Smart Autopilot優(yōu)化了通過鏡筒的電子軌跡,從而確保了在每個加速電壓下盡可能高的分辨率。 ✔ 該自動功能實現(xiàn)了在整個放大倍率范圍內(nèi)(從1倍到2,000,000倍)的無縫對準(zhǔn)自由切換,并將觀察視野增加了10倍,從而可以在單幅圖像中對13 cm的物體成像。 ✔ 32k×24k的圖像存儲分辨率與新的概覽模式相結(jié)合,確保在超大觀察視野內(nèi)獲得無拼接的像素密度。